« Silicène » : différence entre les versions

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== Similitudes et différences avec le graphène ==
De même que le [[silicium]] et le [[carbone]], situés l'un en dessous de l'autre dans le [[tableau périodique des éléments]], partagent de nombreuses propriétés chimiques, mais présentent tout de même d'importantes différences, le silicène et le [[graphène]] diffèrent en particulier par leur organisation spatiale<ref name=scp>{{en}} Jose, Deepthi et Ayan Datta, ''Structures and Chemical Properties of Silicene: Unlike Graphene'', Accounts of Chemical Research 47.2 (2013): 59312095509002-602. Print.</ref> : le graphène est rigoureusement planaire, alors que les hexagones du silicène sont gauchis<ref name=scp />. Cette structure donne au silicène la propriété exceptionnelle d'avoir une [[théorie des bandes|bande interdite]] qu'on peut faire varier sans [[dopage (semi-conducteur)|modification chimique du matériau]], par exemple en lui appliquant un [[champ électrique]] extérieur<ref name=scp />. La réaction d'[[hydrogénation]] du silicène est également beaucoup plus [[réaction exothermique|exothermique]] que celle du graphène. Enfin, les [[liaison covalente|liaisons covalentes]] entre atomes de silicium ne présentant pas de {{lien|pi-empilement|trad=stacking (chemistry)}}, les plans de silicène ne forment pas d'agrégats semblables au [[graphite]]<ref name=scp />.
 
Cependant, le silicène et le graphène ont des structures électroniques semblables. Ils présentent tous deux un cône de Dirac<ref group=N>Voir par exemple la [http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/60/77/81/PDF/delplace-thA_se.pdf thèse de Pierre Delplace]</ref> et une [[relation de dispersion|dispersion électronique linéaire]] autour du [[zone de Brillouin|point K]]. Ils présentent également tous deux un [[effet Hall quantique]] de [[spin]]<ref name=scp />.
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== Modifications de la bande interdite ==
 
Contrairement au cas du [[graphène]], les premières études du silicène ont montré que divers [[dopage (semi-conducteur)|dopants]] permettaient d'ajuster la [[Théorie des bandes|bande interdite]] du système<ref name=TBG>{{en}} Ni, Zeyuan, HongXia Zhong, Xinhe Jiang, Ruge Quhe, Yangyang Wang, Jinbo Yang, Junjie Shi, et Jing Lu, ''Tunable Band Gap and Doping Type in Silicene by Surface Adsorption: Towards Tunneling Transistors'', Academy for interdisciplinary Studies, Peking University, Beijing 100871 P.R. China 1 (2013), {{p.}}1-30.</ref>. Cela permet d'envisager la fabrication de [[Composant électronique|composants électroniques]] demandant des bandes interdites spécifiques ; Il a été montré que la largeur de cette bande peut être amenée à un minimum de {{unité/2|0.1|eV}}, considérablement inférieur à la valeur ({{unité/2|0.4|eV}}) des [[transistor à effet de champ|transistors traditionnels à effet de champ]] (FET)<ref name=TBG />.
 
Induire un [[Semi-conducteur#Dopage N|dopage de type N]] dans la structure du silicène demande l'utilisation d'un [[métal alcalin]]. En variant les quantités de ce métal, il est possible de modifier la largeur de bande, et d'obtenir au maximum une largeur de {{unité/2|0.5|eV}} (mais alors, le voltage d'entrée doit être porté à {{unité/2|30|V}})<ref name=TBG />. Ce dopage ne peut produire que des [[semi-conducteur]]s de type N, mais il a été constaté qu'un dopage avec des atomes d'[[iridium]] permet de créer des jonctions de [[Semi-conducteur#Dopage P|type P]]<ref name=TBG />. Enfin, le [[platine]] (Pt) permet de créer des structures de type I<ref name=TBG />, ce qui permettrait au silicène de jouer un rôle de remplacement de tous les composants électroniques.
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